📝 Resumen ejecutivo
El progreso de China en máquinas de litografía DUV podría erosionar el monopolio de ASML en herramientas avanzadas de fabricación de chips y disminuir la dependencia de las GPU de Nvidia. Alternativas nacionales de empresas como SMEE están reduciendo la brecha tecnológica, permitiendo la producción a 7nm y más allá sin los sistemas EUV de ASML. Este cambio remodela el panorama de los equipos semiconductores, beneficiando a los fabricantes chinos mientras presiona las acciones de ASML y Nvidia.